制备氧化铝涂层的方法

　　目前可用的陶瓷涂层材料包括氧化物、碳化物、氮化物和硼化物陶瓷。氧化铝(Al2O3)是常用的陶瓷涂层材料之一，具有相当好的性能——如生物相容性、耐磨性、良好的热稳定性、高机械强度、高透光率、耐腐蚀性等。因此，氧化铝涂层具有良好的性能。 在包装保护、电气产品、生物医学植入物和机械涂层等行业的应用和前景。

　　目前制备氧化铝涂层的方法很多，所用的设备和制备条件各不相同。 下面简单介绍一些方法：

　　1、电子束蒸发法

　　电子束蒸发法是一种使用真空蒸发工艺镀膜的方法。 在真空条件下，喷涂材料通过电子束在高温下蒸发并输送到需要喷涂的基材上。 调节冷水环境，使被加热的材料冷凝形成涂层的方法。 优点是可以以更高的沉积速率快速制备薄膜。 但在电子束加热装置中，为了快速冷却凝结成涂层，将被加热物质置于冷水中，潮湿的环境会影响涂层的结合力，从而影响整体质量。

　　2.化学气相沉积法

　　化学气相沉积是通过化学反应对气态物质进行处理，在基材表面产生某种形式的沉积物的过程。 主要过程分为三个阶段：首先生成气态挥发性物质; 然后将挥发性物质输送到基材表面; 通过化学反应在基材上形成固体沉积物。气态物质通过化学反应产生不同结构和形态的物质。一般的化学反应方法分为不同的反应条件：热分解反应、化学合成反应和化学输运反应。

　　3、磁控溅射法

　　磁控溅射是指通过蒸发或溅射靶材上的原子或分子，然后将溅射的物质沉积在基板上形成涂层的磁控溅射工艺。磁控溅射法因磁控管反应不同，分为射频反应磁控溅射法和直流(交流)反应磁控溅射法。

　　4. 氧化法

　　氧化制备技术是一种软溶液制备技术。 该方法可以制备出孔径可控的有序氧化铝薄膜。该方法制备的薄膜材料可作为一维纳米材料的模板，应用于微滤器的滤膜上。同时，还可用于制备具有光、电、磁等不同性质的纳米级电子器件。